삼성, 평택 EUV 공정라인 구축…5나노(nm) 이하 주력 생산할 듯

양대규 기자 / 기사승인 : 2020-05-21 13:00:46
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기흥·화성에 이어 평택까지 파운드리 라인 구축

 

▲ 평택캠퍼스[사진=삼성전자]
[IT비즈뉴스 양대규 기자] 삼성전자가 21일 극자외선(Extreme Ultra Violet, EUV) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 파운드리 생산 시설을 구축한다고 밝혔다.


삼성전자는 지난 2월 EUV 전용 화성 'V1 라인' 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나가고 있다고 설명했다.

이번 투자는 삼성이 작년 4월 발표한 '반도체 비전 2030' 관련 후속 조치 중 하나다. 삼성전자는 이달 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 내년 하반기부터 본격 가동할 계획이다.

앞서 삼성전자는 지난해 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노(nm) 양산을 시작했다. 업계 최초의 7나노 양산을 성공한 파운드리 기업은 대만의 TSMC이지만 최첨단 EUV 공정은 삼성이 먼저 적용한 것이다. 

 

현재 양사는 모두 EUV 공정으로 7나노 이하의 파운드리 양산을 진행하고 있다.

 

삼성전자는 올해 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 내년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 늘어난다.

생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정으로, 하반기 5나노 양산이 시작되면 내년 출시되는 다수 제품들에 탑재될 것으로 예상된다.

 

전세계 파운드리 1위 기업인 TSMC는 삼성보다 한발 빠르게, 올해 가을께부터 본격적으로 5나노 제품을 시중에 선보일 것으로 전망된다.

삼성전자 DS부문 파운드리사업부 정은승 사장은 "5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며, "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것"이라고 말했다.

▲ [자료=삼성전자]

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